本站音讯，字据天眼查APP数据泄露晶书册成（688249）新取得一项发明专利授权，专利名为“一种优化光刻机临界尺寸均匀性的模范”，专利央求号为CN202411867983.9，授权日为2025年3月14日。

专利选录：本发明提供一种优化光刻机临界尺寸均匀性的模范，包括以下要领：证据光刻工艺的最小策画规格，并字据所述最小策画规格生成线宽量测图形；提供光罩，所述光罩包括芯片区域，所述芯片区域内漫衍有多个间距开荒的所述线宽量测图形；通过光刻工艺将所述光罩中的所有所述线宽量测图形滚动至晶圆上，以酿成曝光单位，并量测每个所述曝光单位中所有所述线宽量测图形的线宽数据，并字据所述线宽数据对每个所述曝光单位内的临界尺寸均匀性进行补正，以改善晶圆内每个曝光单位内的临界尺寸均匀性，同期省俭了切割谈区域空间，有意于削弱切割谈占用空间。

本年以来晶书册成新取得专利授权51个，较客岁同期减少了15%。忖度公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面参加了6.14亿元，同比增22.27%。

数据来源：天眼查APP

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